豪泽技术涂层高功率脉冲磁控溅射技术

作者:本网编辑 文章来源:数控机床网 发布时间:2011-05-03
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来自荷兰的等离子涂层专家豪泽技术涂层,进一步发展了其高功率脉冲磁控溅射技术HIPIMS和HIPIMS +。 HIPIMS为基底表面蚀刻提供了的良好的效果,而HIPIMS +则非常适合用高沉积速率沉积致密和无缺陷的涂层。来自涂层加工商和工具制造商的测试更证明HIPIMS +在涂层方面取得的进展。这两种技术可单独使用,也可合并使用,并已作为工业生产设备。

“HIPIMS技术在刚开始发展的时候,就很快被证明是物理气相沉积(PVD)硬涂层,”豪泽的产品经理 Lucien Peeters解释说。“电弧蒸发和磁控溅射被认为是两个层面。 HIPIMS是第三个层面,因为它结合了高电离,诸如与磁控溅射和电弧蒸发的优点。其结果是产生良好的附着力和致密度,非常光滑涂层。 HIPIMS技术非常合适用于蚀刻。由于长达8兆瓦的峰值功率,HIPIMS产生的溅射原子将进入到基体,形成致密,良好结合力的柱壮显微结构。用 HIPIMS涂层也是可行的,但它的沉积率大大低于目前的溅射技术。”

“我们研发HIPIMS+技术使涂层达到工业级水准。 HIPIMS +增强了高沉积速率的离化率,堪比电弧工艺,并达到致密和无缺陷的涂层效果。HIPIMS +结合了弧技术的优点、高沉积速率和良好的附着力,并使磁控溅射光滑涂层。在过去几个月全球的工具制造商和涂层加工商做过许多研究测试,结果非常理想。”Peeters表示。

高硬度,可调节的应力

“从一开始HIPIMS和HIPIMS +技术就承诺实现一个极致光滑的涂层,” Peeters继续说 :“这是精密工具行业的重要特征。我们对TiAlN涂层做了比较(50:50):一个用电弧蒸发技术,另一个用HIPIMS +技术。我们发现,使用HIPIMS +技术的涂层比电弧蒸发涂层光滑得多。另外HIPIMS +可以得到与电弧技术相同的涂层显微结构。”

光滑度不是工具涂层的唯一要点。当使用电弧蒸发技术对工具进行涂层加工,为了不产生过多残余应力,涂层硬度有可能受到限制。Peeters说 :“HIPIMS +技术可以对残余应力进行调整,同时保持较高的硬度。”

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